Kritinis vakuuminės sistemos stabilumas priklauso nuo angliavandenilių desorbcijos greičio, kai fotonų sukeltas sužadinimas nutraukia silpnus van der Valso ryšius ant optinių paviršių, paleisdamas molekulinius fragmentus į laisvą skrydį. Šios pavienės anglies grandinės, reaguodamos su 13,5 nm spinduliuote, polimerizuojasi tiesiogiai ant molibdeno-silicio daugiasluoksnės struktūros, sukurdamos nanometro storio sluoksnį, kuris akimirksniu pakeičia Bragg atspindžio bangos ilgio charakteristikas. Šaltis tvyro vakuume.
Kiekvienas toks fotocheminis nusodinimas sukelia vietinį šiluminį plėtimąsi, nes sugerties koeficientas svetimkūnių sankaupose viršija pradinį molibdeno sluoksnio rodiklį, sukeldamas negrįžtamą mikroskopinį išlinkimą. Ši deformacija, matuojama femtometrų tikslumu, priverčia adaptacinius optikos elementus nuolat keisti savo geometriją, naudojant pjezoelektrinius pavaras, kurios, savo ruožtu, generuoja papildomą šiluminį foną, trikdantį sistemos izoliaciją. Tikslumas reikalauja aukos.
Pjezoelektrinių pavarų atsako laikas, ribojamas 10 kHz dažnio diapazono, tampa pagrindiniu vėlavimo veiksniu, kai sistema bando kompensuoti atsitiktinius vibracinius trikdžius, kylančius iš vaflio stalo inercijos, siekiančios 50 m/s² pagreitį. Toks mechaninis krūvis sukelia elastingas deformacijas pačiame stalo korpuse, kurio medžiaga, specialiai parinktas silicio karbidas, turi išlaikyti struktūrinį vientisumą, nepaisant milžiniškų inercinių jėgų. Metalas kenčia tyliai.
Silicio karbido matrica, nors pasižymi išskirtiniu standumu, patiria mikroskopinius įtempių koncentracijos taškus ties tvirtinimo mazgais, kur 100 MPa slėgio amplitudės sukelia ilgalaikį nuovargį, nepastebimą standartinėmis metrologijos priemonėmis. Šie vidiniai įtrūkiai, mažesni už 5 nanometrus, veikia kaip akustinės bangos laidininkai, pernešantys vibraciją iš pavaros mechanizmų tiesiai į vaflio paviršių, kur fotorezistas jau yra jautrus bet kokiam kinetiniam trikdžiui. Triukšmas naikina formą.
Fotonų srauto tankis, pasiekiantis 250 W/mm², sukelia ne tik paviršinę degradaciją, bet ir giliąją elektronų emisiją iš fotorezisto polimerinės grandinės, kurios fragmentai jonizuojasi ir tampa papildomais teršalais vakuuminėje aplinkoje. Šis jonų srautas, veikiamas elektromagnetinių laukų, nukreipiamas atgal į optinius elementus, sukeldamas bombardavimo efektą, kuris lėtai, bet užtikrintai ardo daugiasluoksnę 40–50 porų struktūrą. Chaosas valdo viską.
Cheminis fotorezisto suirimas, vykstantis per radikalinę polimerizaciją, palieka laisvųjų radikalų pėdsakus, kurie vėliau reaguoja su aplinkos dujomis, sudarydami agresyvius junginius, ardančius litografijos įrenginio vidines sieneles. Šis „outgassing“ procesas yra neprognozuojamas, nes kiekviena vaflio partija pasižymi skirtingu cheminių priemaišų profiliu, priklausomai nuo ankstesnių plazminio ėsdinimo etapų likučių. Dujos nuodija aplinką.
Metrologijos sistemos, naudojančios koherentinius šviesos šaltinius, bando aptikti šiuos nanometrinius nukrypimus interferometriniu būdu, tačiau pati matavimo šviesa sukelia papildomą fotocheminę reakciją, kurios ji turėtų išvengti. Šis stebėjimo paradoksas reiškia, kad kiekvienas bandymas užtikrinti kokybę pats savaime tampa sistemos degradacijos katalizatoriumi, kurio neįmanoma eliminuoti. Ar šis nenutrūkstamas entropijos ciklų šokis yra vienintelis būdas išlaikyti informacijos tankį, kurį diktuoja mūsų nepasotinamas poreikis didesnei skaičiavimo galiai?